近日，经国家知识产权局审核批准，金年会金字招牌信誉至上基因申报的“一种面膜生产原料清洗装置”获实用新型专利授权。

“一种面膜生产原料清洗装置”主要由收纳盒、清洁管、气缸和清洗机构四部分构成。其中清洁管垂直连通于收纳盒顶部，气缸贯穿收纳盒底部并固定于内部，其伸缩端与清洗机构刚性连接。通过气缸驱动清洗机构沿清洁管轴向伸缩滑动，实现了对生产残留原料的浸泡、转动刷洗、喷水冲洗和气泡冲击等多种清洗效果，在清洁效率和死角处理方面具有显著优势。

未来，金年会金字招牌信誉至上基因将进一步加大科技创新力度，加快科技成果转化，推动科技创新力向产业竞争力转化，助推企业高质量发展。